Stanford Sputter Targets
Información del Personal
No. Empleados
99
Detalles de la Actividad de la Empresa
Tipos de material
Pulverización Catódica Centrado, Boro, Cobre, Germanio, Indio, Molibdeno, Telurio, Estaño, Óxido de Estaño, Oxido de Zinc, Selenio
Úlima Actualización
9 jun. 2021
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